讲座题目：离子体在高分辨率光刻技术和结构色中的应用

主 讲 人：L. Jay Guo 教授

讲座时间：2018年 6月20日10：00

讲座地点：理学院202报告厅

请有兴趣的师生前来聆听。

理学院

2018年06月15日

讲座内容简介：随着等离子体激元的深入研究，人们重新关注到高分辨率光刻技术。然而，光刻出浅而不均匀的结构模式不能用于实际应用。我们发现，通过利用空间光过滤可以获得均匀的，亚波长尺寸和高纵横比的结构模式;并且通过使用ENZ超材料结构可以实现比掩模上的图案特征小很多的图案特征。

天然有色染料或颜料不同，结构色可以通过光学共振和操纵光子结构内的光学相位来产生。它们可用于彩色显示器，成像器或彩色涂层，可提供长期稳定性，无需任何化学颜料。还可扩展到制造技术，如卷对卷纳米压印可以促进高速和大面积制造。使用结构色的有源设备也可以被利用，例如，具有所需颜色和透明度（或反射率）的太阳能电池可以使用混合半导体材料来构建。

最后，通过结合其他金属成分实现了超薄，光滑和稳定的Ag薄膜，这可用于等离子体应用，并且是透明导体的首选材料。

报告人简介：L. Jay Guo于1999年在密歇根大学开始其学术生涯，自2011年起一直担任电气工程和计算机科学的教授职位，并从事应用物理，机械工程，大分子科学与工程等研究工作。在Nature Photnics, Nature Communications, Advanced Materials, ACS Nano, Nano Letters等期刊上发表论文210余篇，引用次数超过29000次，并被众多媒体报道，美国专利20多项。他曾获得密歇根大学工程学院颁发的卓越研究奖和电子工程系杰出成就奖。曾在任职于许多与纳米技术和光子学相关的国际会议委员会工作。他的课题组的研究主要包括基于聚合物的光子器件和传感器应用，有机和混合光伏，等离子体纳米光子学，基于纳米压印和卷对卷纳米制造技术等。