11月1日上午，南开大学授罗锋教授应邀在线做了题为“超精密制造与集成电路工艺与装备”的学术报告。报告会由理学院院长陈国庆教授主持。理学院的部分教师与学生通过线上线下多种方式聆听了该报告。

报告会上，罗锋教授结合实践经验和研究成果，从当前半导体产业的研究现状出发，指出当前我国在芯片研发制造领域的难点和痛点，提出针对Sub-7nm以下先进工艺节点中涉及的新材料和新器件，以及相关的失效检测方法，报告重点围绕光刻，刻蚀，沉积等集成电路装备的现状和研发趋势和技术挑战，并对团队的研究成果进行了详细的解析，系统介绍团队在芯片研发领域的相关工作与布局。

报告最后，针对研究生如何开展科研的问题，罗锋教授结合自身的学术经历，分享了自己在国内科研的心得体会，强调了学生的主动性对科研的重要性，提醒研究生勿忘初心，打捞根基，做出成绩。

罗锋教授作报告